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半导体用石墨坩埚的优点与缺点
发布时间: 2025-09-16 13:50:29 

半导体用石墨坩埚的优点与缺点

半导体用石墨坩埚由高纯度石墨原料制备而成,具有耐高温、抗腐蚀、抗氧化等特性,这些特性主要源于石墨原料和生产工艺。

1. 石墨坩埚优点

‌耐高温‌:石墨坩埚的耐高温性能突出,可长时间在高温环境下稳定工作,满足半导体高温环境要求。

导热性:石墨坩埚导热性能优异,能快速将热量从外部设备传导至内部半导体元件,实现均匀加热。

‌抗腐蚀:石墨坩埚对酸性、碱性溶液有较强耐受性,化学稳定性好,能有效保证单晶硅等材料的纯净度。

机械强度:石墨坩埚机械强度高,能够承受一定的冲击和热应力,有效保护半导体元件降低生产能耗。

2. 石墨坩埚缺点

‌抗氧化性:石墨坩埚抗氧化性不足,在高温氧化环境中易损耗,因此,需配合保护措施(表面涂层技术)解决,以在坩埚表面形成致密保护层,隔绝与氧气接触,延长使用寿命。

温差冲击‌:石墨坩埚加热或冷却过程中需控制温度变化速率,过快升温或降温均会导致热应力过大,引发其裂纹或结构损坏。

机械冲击:石墨坩埚虽具有较高机械强度,但其材质为脆性材料,受外力冲击时仍易产生裂纹或破损。

‌成本较高‌:石墨坩埚‌的原料成本及加工工艺,相比其他材质坩埚进一步增加了成本。

以上仅为石墨坩埚的核心优点与缺点。在选择使用石墨坩埚时,建议根据实际应用场景选择规格、型号和材质,以确保石墨坩埚性能符合需求。





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